Es un sistema personalizado para el depósito de capas delgadas de metales y óxidos metálicos con dos fuentes DC y tres fuentes RF con capacidad de co-sputtering. Se pueden procesar capas desde unidades a centenas de nm con gran uniformidad en superficies de hasta 4’’ de diámetro. Opera con gases como Ar, O2 o N para formar óxidos o nitruros metálicos. Cuenta con calefactor de muestras que alcanza los 700ºC, medidor de tasa de depósito, antecámara de depósito con caset con capacidad hasta 10 sustratos.
Además, Ión-Beam y Glow-Discharge para preparación de muestras. Los materiales disponibles son Au, Ni, Al, Co, Cu, Nb, Ti, SiOx.
